标准编号：GB/T 19444-2004

中文名称：硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法

英文名称：Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction

发布日期：2004-02-05

实施日期：2004-07-01

代替标准：

标准类别：

采标号：None

采标名称：None

采标程度：

采标类型：

ICS：

CCS：