标准编号：GB/T 25188-2010

中文名称：硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法

英文名称：Thickness measurements for ultrathin silicon oxide layers on silicon wafers X-ray photoelectron spectroscopy

发布日期：2010-09-26

实施日期：2011-08-01

代替标准：

标准类别：

采标号：None

采标名称：None

采标程度：

采标类型：

ICS：

CCS：