标准编号：GB/T 34649-2017

中文名称：磁控溅射用钌靶

英文名称：Magnetron sputtering ruthenium target

发布日期：2017-09-29

实施日期：2018-04-01

代替标准：

标准类别：

采标号：None

采标名称：None

采标程度：

采标类型：

ICS：

CCS：